ASML：从未向中国交付过任何EUV系统

美国商务部长霍华德·卢特尼克近日在一系列会晤中对荷兰光刻巨头ASML高管表示担忧，称可能有一台极紫外（EUV）光刻机流入中国，此举若属实，将构成对现行出口管制制度的重大违反。 ASML则坚决否认，称公司从未向中国交付过任何EUV系统，美国商务部也未向媒体或ASML公开展示所谓证据。

据彭博社报道，美国政府内部官员声称掌握了ASML向中国运送EUV相关组件和运输设备的证据，但在被多次要求时并未出示具体材料，也没有说明是否确有整机落地中国。 ASML方面明确表示，公司历史上生产的EUV光刻机均在严格追踪之中，要么在客户手中运行且状态可监控，要么已拆解并回收至ASML内部。

ASML总部位于荷兰，对普通公众而言或许名气不显，但在全球AI算力基础设施构建中，它是仅次于英伟达和美国几家超大规模云厂商之外最关键的企业之一。 目前，ASML是全球唯一能够生产EUV光刻机的公司，这种设备可以在硅片上刻画最先进的芯片电路，使得台积电为英伟达、苹果等公司代工的尖端处理器得以量产。 也正因这种技术垄断，ASML已成为欧洲市值最高的上市公司之一，市值近期徘徊在约7000亿美元，过去一年在AI芯片需求推动下大幅走高。

正因为如此，“EUV是否进入中国”的问题才显得格外敏感。 如果哪怕只有一台EUV系统流入中国，将被视为美国近年来构建的高端芯片与AI算力出口管制体系中最严重的一次漏洞之一，直接触及华盛顿试图限制北京军工和高科技产业基础升级的底线。 早在川普第一任期，美国就推动荷兰政府否决了ASML向中国出口EUV的许可，此后中国市场一直被挡在这条技术代际门槛之外。

ASML首席执行官傅立奇（Christophe Fouquet）在六周前接受采访时曾正面回应“中国问题”。 他表示，公司为所有出厂设备建立了完整的追踪体系，每一台EUV要么在经授权客户的生产线上运行，并处于可监控状态，要么已经退回ASML并被拆解。 此外，ASML内部对接触EUV技术的人员实施了“防火墙”制度：能够访问EUV技术、文档和培训资料的员工，与无法访问相关信息的员工完全隔离，而中国团队被刻意安排在“防火墙”的另一侧，避免其接触关键技术细节。

傅立奇还强调，ASML之所以能够造出EUV光刻机，是建立在公司几十年来积累的技术基础之上：整机约八成的技术源自过往经验，真正全新的难点在于如何产生EUV光源，而这一问题单独就耗费了约二十年时间才被攻克。 在他看来，没有亲手接触过整机，只靠外部观察或零散信息，很难逆向复制出一台完整的EUV系统，这也是其论证“中国不可能通过偷师造出EUV”的核心逻辑之一。

除了技术与安全层面的考量，ASML也从商业利益出发否认暗中向中国提供EUV的动机。 公司目前仍被允许向中国销售较旧一代的深紫外（DUV）光刻机，这些设备最早在十多年前就开始出货，如今仍构成ASML对华业务的重要组成部分。 傅立奇的说法是，公司有意保持代际差距：通过销售落后一两代的工具，让中国客户仍有业务可做，但难以借此追平全球最前沿水平，从而在维持收入的同时降低培育未来竞争对手的风险。 ASML预计，2026年约有20%的营收将来自当前被许可的对华销售，如果为了单笔非法交易而冒险触犯EUV出口禁令，不仅会危及这部分收入，也可能动摇其作为“欧洲最赚钱垄断企业”之一的地位。

不过，ASML的说法并不能直接证明美国政府的怀疑就是错误的，因为后者尚未公开手中的所谓证据。 在证据公开之前，外界很难做出最终判断，也为各方的政治和商业解读留下了空间。

值得注意的是，美国商务部在卢特尼克领导下，去年底同意向一家名为xLight的初创公司提供最多1.5亿美元的政府资金，以支持其开发新一代光源技术。 外界普遍认为，这项技术在理论上有可能从根本上挑战ASML在EUV光源上的垄断地位。 不过，xLight的CEO此前在接受采访时表示，公司更愿意将自己定位为ASML的未来合作伙伴，而非正面竞争者，其目标是打造可嵌入ASML光刻机的光源模块，而不是完全替代ASML的整机方案。

当记者将这一“合作伙伴”定位转述给傅立奇时，他保持了礼貌，却并不完全认同。 在他看来，ASML并不认为自己需要依赖xLight的技术才能保持行业领先，公司对自身技术路线的延续性和优势有足够信心。 这也引发外界猜测：在美国政府既是“监管者”，又通过投资成为潜在新技术受益方的背景下，政府对ASML的审查是否会受到产业布局和利益考量的影响。

除了xLight，彼得·蒂尔也押注了一家名为Substrate的初创公司，希望在EUV替代技术上取得突破。 与xLight对“做ASML的合作伙伴”定位有所不同，Substrate明确提出要研发能够与ASML技术直接竞争的方案，其野心是成为EUV的潜在替代者之一。

在地缘政治紧张的大背景下，美国国会一项跨党派法案也在推进之中，其影响范围远不止EUV。 该法案的目标是在更大范围内收紧对华先进制造工具出口，其中包括对ASML向中国出口所有DUV机型实施实际上的全面禁止，而这些较低代际的设备目前约贡献ASML预期2026年营收的五分之一。 该法案已于4月在关键委员会通过，川普政府尚未就其立场傍出正式表态。

在美国持续加码出口管制、内部则扶持多家潜在“下一代光刻技术”企业的同时，ASML处在多重力量交汇的中心：一方面，它是全球高端芯片和AI产业不可替代的基础设施供应商，任何对其出口路线图的调整都会牵动整个供应链；另一方面，它又是美国政府审视和施压的对象，被要求在商业利益、盟友关系与对华限制之间寻找微妙平衡。 至于那台传闻中的“在中国的EUV光刻机”究竟是否存在，只能静待美国政府是否愿意拿出更具体的证据，并接受外界检验。