荷兰半导体装置制造商艾司摩尔（ASML）。（美联社）

《路透》28日引述知情人士说法，报道中国开始生产自主研发的浸没式深紫外光（DUV）曝光机的消息。

《路透》指出，这项技术对于制造芯片至关重要，也标志着北京对于降低依赖外国技术的努力迈出关键一步。如果美方对于ASML曝光机的管制持续收紧，中国自主研发的曝光机可能成为重要的备选方案。值得注意的是，中国自主研发的DUV曝光机是由鲜为人知的上海公司“爱生纳”（Aishengna）主导，这间神秘低调的公司甚至连官网都没有架设。

美国目前禁止中国购买ASML最先进的极紫外光（EUV）曝光机，荷兰的出口管制也限制了中国取得部分先进深紫外光（DUV）曝光机的管道。尽管北京方面正积极推动自给自足，中国仍是ASML的关键营收支柱，今年上半年净销售额约有16%来自中国。虽然中国芯片制造商被禁止取得先进的EUV系统，但仍持续大量采购技术较落后的DUV设备。

中国开始量产国产DUV曝光机的消息，27日就由美国的资讯媒体《The Information》披露，并称这家获得国家支持的制造商正在小辨模批量生产，今年将向中芯国际、华虹半导体及长鑫存储等芯片制造商交付首批设备，今年预计量产5台，明年的产量则上看20台。这款中国产曝光机主打28奈米芯片生产，还可满足7奈米级别芯片的制造需求。不过《The Information》并未报道制造商的具体名称，只说该公司整合了中国多家企业的研发团队。

《路透》28日报道，制造国产曝光机的企业是上海爱生纳电子科技集团，并称这项进展对北京推动半导体自给自足的计划而言是一大胜利——这项计划也是中国国家主席习近平最重视的目标之一——但中国的技术水准还不会对荷兰供应商艾斯摩尔（ASML）构成即时的商业威胁。据匿名的知情人士表示，爱生纳的DUV曝光机仍需进行进一步测试，且与ASML的竞争机型相比，两者仍有很大差距。

不过中国开始量产曝光机的消息传出后，ASML的股价一度下跌了8%，后来才缩小跌幅为1.6%。《The Information》还说，如果中国的DUV量产计划一切顺利，确实可能影响ASML的市场主导地位。不过包括ASML、中芯国际、华虹及长鑫存储均未回应《路透》的置评请求。

摩根大通（JP Morgan Chase）分析师28日表示，尽管市场出现相应的调整，但他认为这则消息不太可能影响ASML长期的获利走势：“生产少量沉浸式深紫外（DUV）曝光机，与大规模量产是两件事；关键在于大规模制造的曝光机在良率、对位精度、产能及可靠性是否能维持稳定。”

《路透》指出，爱生纳成立于2023年8月，注册资本为70亿元人民币（10亿美元），仅由两家国有股东——上海电气控股及上海国际信托旗下的一家子公司——提供支持。关于爱生纳的资讯寥寥无几，它既没有官方网站，也未曾公开披露任何有关其营运的资讯。

消息人士表示，该公司已整合了曝光机新创公司“宇量升”（由华为支持的设备制造商SiCarrier的子公司）——该公司去年已开始测试深紫外光（DUV）原型机——以及上海微电子设备（SMEE）的团队。不过公司资讯及招聘纪录显示，爱生纳与宇量升在上海的地址相同。《路透》曾报道中国成功研发极紫外光（EUV）曝光机的原型机，不过距离量产仍有数年之遥。