美议员提新法案 加强芯片与设备对华出口管制

为遏止中共的科技极权扩张，美国众议院对中共特别委员会（Select Committee on the CCP）主席约翰‧穆勒纳尔（John Moolenaar）于周二（4月21日）提出全新半导体管制法案，并求美国国务卿与荷兰政府迅速协调，以防堵中共钻美国的出口管制漏洞和快速发展AI。

该法案名为“调节半导体管制以限制出口法案”（Semiconductor Controls Adjusted to Limit Exports Act，简称“SCALE法案”），旨在为向中国销售先进半导体制定明确的出口管制标准，从而确保美国企业公平的竞争环境，并有效维护国家安全。

穆勒纳尔主席表示，“《SCALE法案》将通过确保美国公司绝不向中国（中共）出售全球最顶尖的芯片，来巩固美国在AI领域的未来主导地位。”

《SCALE法案》措施

《SCALE法案》将指示商务部长与国家情报总监协调，共同制定与公布关于中共在AI硬件能力方面的客观性能指标，并将定期更新指标以反映中共在AI竞赛中的实际发展水准。这些指标将包括总处理能力、互连频宽和记忆体容量等。

这项新法案针对芯片出口制定了“动态技术门槛”（RTT），该门槛直接与敌对国已展现的大规模生产先进芯片的能力挂钩。

在此框架下，仅允许出口性能低于对手国家已能自主量产（定义为产量至少满足其国内年度需求的25%）芯片性能110%的产品。

此举可确保美国及盟国企业在安全无虞的前提下，能继续在全球市场保持竞争力，同时避免助长对手国家无法凭自身能力达成的技术突破。

该法案还包含严格的保障措施，以防止敌对国缩小与美国的差距。若出口行为将导致敌对国控制的AI硬件占美国整体AI硬件总量的比例超过5%，相关许可证申请将被推定为不予核准。此外，出口行为不得损害美国客户的利益，必须证明此举不会中断美国供应链及国内需求。重要的是，即使出口量低于“动态技术门槛”，仍须遵守现有管制措施，包括针对商务部“实体管制清单”（黑名单）上实体的限制。

透过要求定期评估对手的能力，并将出口管制与可量化的门槛挂钩，《SCALE法案》建立了一个可预测且可执行的体系，既能巩固美国在AI领域的领导地位，亦能防止战略竞争对手缩小与美国的差距。

施压荷兰 防堵ASML设备漏洞

穆勒纳尔除了提出《SCALE法案》，还致函敦促美国国务卿马可‧卢比奥（Marco Rubio）与荷兰政府展开外交磋商，以堵住向中共出售先进半导体制造设备方面的重大漏洞。

穆勒纳在信中指出，近期有报道称荷兰光刻机巨擘艾司摩尔（ASML）计划在2026年底前，向中国晶圆厂交付新款深紫外线浸没式（DUV）光刻机NXT:1965i——该机型由1980i系列降规而来，以符合美国出口规范。

穆勒纳尔在信中强调，“川普总统第一任期政府正确地将光刻技术出口视为赢得美中AI战及更广泛科技竞争的关键。透过成功施压荷兰，迫使荷兰政府停止ASML公司向中共出口极紫外（EUV）光刻设备，掌控了美中科技对抗中，最重要的‘卡脖子’技术关键。”

穆勒纳尔接着说，“此举不仅限制中共获得高阶的光刻设备，还导致中共无法大规模生产7奈米以下芯片，使它的技术水准至少落后国际顶尖大厂的水准7年。”

不过，穆勒纳尔警告，“现在，ASML正在利用美国出口管制机制中的关键漏洞……因此敦促卢比奥国务卿立刻与荷兰政府接洽，确保给中共的NXT:1965i光刻机的管制标准，不得比性能更强的NXT:1980i光刻机的管制标准更宽松。以达到防堵中共大幅推进在AI芯片上的发展。”

穆勒纳尔在信中呼吁国务院和商务部联手，制定一项“单边的备用方案”（unilateral backstop），防止荷兰政府拒绝采取行动。美国工业与安全局也可透过修改现有出口管制，并在必要时动用《外国直接产品规则》（FDPR），强制管控ASML出口设备给中共。

他请求国务院最迟于2026年5月4日前提交相关的应对报告。

众院情报与外交委员会：加强出口管制

同一天（4月21日），美国众议院常设情报委员会主席里克‧克劳福德（Rick Crawford）和众议院外交事务委员会主席布莱恩‧马斯特（Brian Mast），在与中央情报局（CIA）、国家安全局（NSA）、国务院和能源部就“出口管制与对美中科技竞争”之影响举行联合机密简报会后，共同发表了声明。

联合声明指出，“针对半导体制造设备和AI芯片的出口管制，已经成功巩固了美国在AI军备竞赛中的优势。不过，中共正透过走私、AI大模型蒸馏技术（Distillation）以及远端存取美国技术（设备）等手段，试图以欺诈与窃取方式获胜。”

他们强调，“为此，美国必须全面切断中共获取美国及其盟国技术的管道，并彻底封堵出口管制中的漏洞，达到巩固美国在AI上的绝对领先地位。”