媒体披露中国已造出极紫外光（EUV）微影设备原型机，显示在制造先进半导体领域取得实质进展，但彭博经济研究指出这不代表进展加速，以原型机产生EUV和生产芯片是两回事。

根据彭博经济研究（Bloomberg Economics），荷兰半导体设备大厂艾司摩尔（ASML）花费近20年才从最初的原型机进入商业生产。

路透社稍早调查发现，在深圳一座高度戒备的实验室内，中国科学家已打造出多年来华府极力阻挡的技术成果，即一台可望生产先进芯片的原型机。这台原型机于2025年初完成，现正进行测试，体积几乎占满整个工厂楼层。

2名知情人士透露，这项设备由曾任ASML的工程师团队打造，透过逆向工程仿制ASML的EUV设备。这台原型机已能成功产生极紫外光并能正常运作，但尚未制造出可用的芯片。

这项突破标志着中国为实现半导体自给自足、历时6年政府计划的里程碑，这也是中国国家主席习近平最优先政策之一。尽管中国的半导体目标早已公开，但深圳EUV微影设备计划一直在秘密进行。

这台深圳原型机未公布光源功率、正常运转时间以及产出效率等关键指标，仍停在实验室成果这一步，尚未成为经过验证的制造能力。

报道细节揭露出更深层的限制：这台原型机采用的部分零组件来自国外，是透过灰色市场取得，这个供应链无法扩张形成一个产业。

报道证实，这项计划遵循艾司摩尔的传统路径，并未试图实现技术跨越。报道中描述了标准的激光产生电浆（LPP）技术，并指出其中面临光学及光源功率等挑战。ASML花费数十年才克服这些难关。

中国研究人员虽然持续探索放电产生电浆（DPP）和粒子加速器光源等替代方案，但ASML最终认定LPP是提升EUV功率、实现量产最可行的路径。

产生EUV是必要的里程碑，但需要持续输出高功率才能达到商业可行性。ASML的路径需要约250瓦洁净能源才能实现具有经济意义的产出效率。

对ASML的EUV微影设备而言，获得足够强度光源一直是外界公认最难克服的技术问题。报道说道，为提升功率，中国这台原型机体积比ASML系统大出许多倍，显示中方采用的是远低于量产所需性能的粗暴方式。

据报道，这台原型机组装过程使用ASML、日本尼康（Nikon）及佳能（Canon）的部分零组件，主要透过灰色管道从二手市场或隐瞒买家身份的中介商取得。

如果中方想要的不只是一次实验室演示，还要做到不受出口管制影响，那么所有从外部采购的子系统和零组件都必须在中国境内复制。

彭博经济研究强调，打造一个工业生态系统不能仰赖灰色市场的零组件。

利用EUV工具进行量产，需具备可维修的零组件、可靠的供应链和配套生态系统，包含光源和光学元件这类子系统，以及光罩和光阻剂等原物料。

中国目前仍位于使用原型机生产工作芯片此一阶段，与国产零组件组装并且能够量产的工具相比还差得远。